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Dispositivo de captura de gás com chip de silício
Dispositivo de captura de gás com chip de silício
Detalhes do produto
Introdução do produto
Utilizado para capturar componentes voláteis (poluentes orgânicos) na superfície de chips de silício de 8 e 6 polegadas. (SW-8400)
Utilizado para capturar componentes voláteis (poluentes orgânicos) na superfície de um chip de silício de 12 polegadas. (SW-12400)
Captura de gás volátil de chips de silício unilaterais, fácil de operar.
O forno de aquecimento usa o método de suspensão inversa para capturar amostras apenas do gás gerado na frente do chip.
Utilizado para capturar componentes voláteis (poluentes orgânicos) na superfície de um chip de silício de 12 polegadas. (SW-12400)
Captura de gás volátil de chips de silício unilaterais, fácil de operar.
O forno de aquecimento usa o método de suspensão inversa para capturar amostras apenas do gás gerado na frente do chip.
O forno pode ser aquecido até 500°C.
· A vedação do forno de aquecimento é selada em anel O (material de poliamina), sem vazamento.
Geralmente, o gás é capturado com PAT (volume de conteúdo de 10 ml, preenchido com 2,5 g de Tenax GR). Também é possível usar os tubos de amostragem correspondentes de outros fabricantes para amostragem.
· A vedação do forno de aquecimento é selada em anel O (material de poliamina), sem vazamento.
Geralmente, o gás é capturado com PAT (volume de conteúdo de 10 ml, preenchido com 2,5 g de Tenax GR). Também é possível usar os tubos de amostragem correspondentes de outros fabricantes para amostragem.
Equipado com dispositivo de circulação de água de resfriamento.
Equipado com dispositivos de proteção contra sobreaquecimento, dispositivos de segurança interbloqueados, botões de parada de emergência e sensores de vazamento (opcionais).
Equipado com dispositivos de proteção contra sobreaquecimento, dispositivos de segurança interbloqueados, botões de parada de emergência e sensores de vazamento (opcionais).
Parâmetros técnicos
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Modo
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Modo de suspensão inversa
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Captura do tamanho do chip de silício
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Anéis de expansão de 8" ou 6", abaixo de 5" (modelo 12400, 12")
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Anel em forma de O
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Diâmetro da vedação 220mm (poliamina)
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Forno de aquecimento de quartzo
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Materiais de quartzo transparentes
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Método de aquecimento do forno de aquecimento
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Método de aquecimento independente da placa superior e da placa inferior
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Temperatura de uso do forno de aquecimento
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Uso comum 400 ° C (até 500 ° C)
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Refrigeração do forno de aquecimento
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Dispositivo de circulação de água de resfriamento
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Tubo de isolamento
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Tratamento de revestimento inerte de superfície interna
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Soprar gás
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Normalmente com nitrogênio, fluxo máximo de uso 500ml / min
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Dispositivo contra sobreaquecimento
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Corrente 15A, corrente de indução 30mA
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Botão de parada de emergência
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Vermelho, cogumeloso
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Dispositivos de segurança
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Estrutura de bloqueio
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Método de pressão
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Motorizador
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Tamanho do equipamento
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1140(W)×1106(H)×750(D)mm
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Peso
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280Kg
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Alimentação
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Unifásico AC200V, 15A, AC100V, 20A
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Anexos padrão:
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PAT (tubo de adsorção de nível 1):
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2 (não compatível com tubos de captura de outras empresas)
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O PAT
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1 (não compatível com tubos de captura de outras empresas)
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Adaptador PAT
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1 (para uso com tubos de captura de outras empresas)
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Anel em forma de O
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Dois.
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Dispositivo de circulação de água de resfriamento
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1 unidade (com tubo padrão)
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Tubo de isolamento
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1 peça
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Distribuição de gás
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1 conjunto (1/16"-1/8")
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Cabo
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1 conjunto
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Ferramentas
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1 conjunto
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Instruções de funcionamento
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1 Livro
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* Consulte as especificações técnicas do modelo SW-12400.
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