O sistema OTL-PECVD-1200PECVD é composto por forno de tubo de vácuo OTL1200, câmara de vácuo de quartzo, fonte de energia RF, sistema de abastecimento de gás GX, sistema de bombeamento de gás, sistema de medição de vácuo.

Características principais:

1, através da fonte de energia de radiofrequência para transformar o gás dentro da câmara de vácuo de quartzo em estado iónico.

O PECVD tem uma temperatura mais baixa do que o CVD comum para a deposição de gases químicos.

3, o tamanho de tensão da película depositada pode ser controlado pela frequência da fonte de energia de rádio-frequência.

O PECVD tem uma alta taxa de deposição de gás químico, boa uniformidade, alta consistência e estabilidade do que o CVD comum.

Amplamente utilizado em: o crescimento de várias películas finas, como: SiOx, SiNx, SiOxNy e silício amorótipo (a-Si: H), etc.

O sistema OTL-PECVD-1200 PECVD usa o fio de resistência Kanthal sueco como elemento de aquecimento, com estrutura de caixa de duas camadas e medidor de temperatura de controle de procedimento de 30 seções, acionamento de fase deslocada, controle de silício, forno com material de fibra policristalina de óxido de alumínio, flange de aço inoxidável em ambas as extremidades do tubo do forno, flange de aço inoxidável com boca de ar, válvulas e medidores de pressão instalados, o vácuo pode atingir 10-3 Pa ao bombear vácuo, com equilíbrio de campo térmico, baixa temperatura da superfície, velocidade de temperatura de elevação e redução rápida, poupança de energia, preço favorável e outras vantagens.

(3), equilíbrio de resistência, bom equilíbrio de campo de temperatura

Componente de aquecimento: fio de resistência importado Kanthal A1 da Suécia (fio de resistência com garantia de 2 anos)

Quando o circuito for sobrecorrente ou vazado, a abertura vazia será desconectada automaticamente

O forno está equipado com uma interface de comunicação e software, que pode controlar diretamente os vários parâmetros do forno através do computador, e pode observar os valores de temperatura PV e SV do forno e o funcionamento do instrumento do computador, a curva de aquecimento real do forno será desenhada em tempo real e pode salvar os dados de temperatura de cada momento, a qualquer momento pode ajustar o vácuo.

2) Adopção da tecnologia japonesa.

(3), o espaço e a distância do fio de resistência na fogão são todos dispostos de acordo com a melhor tecnologia térmica do Japão, simulando o campo térmico através do software térmico

(4), uso de 4 semanas de aquecimento, campo de temperatura mais equilibrado

(Todos os aparelhos importados com certificação UL)